纳米光刻中的压电扫描台
纳米光刻是一种全新的纳米图形复制方法,实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。首先计算机将BMP图转化成灰度图,然后再通过二维扫描台,带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化,同时控制激光器及扫描台,完成图像的纳米定位加工。纳米光刻技术是制作纳米结构的关键,具有广阔的应用前景。
利用芯明天P12系列XY二维扫描台,可带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化,同时控制激光器及扫描台,二者配合完成图像的纳米精度加工。
P12.XY100二维压电扫描台
P12.XY100为二维直线扫描台,内置高可靠性压电陶瓷,运动直线性好,台体中心圆形通孔孔径可选25mm 或35mm,满足精密加工、扫描显微等应用。
开/闭环曲线
注:施加至压电陶瓷的电压约为输入控制电压的12倍。
闭环线性度
技术参数
型号:P12.XY100
运动自由度:X、Y
行程范围@120V:80μm/轴
行程范围@150V:100μm/轴
闭环传感器:SGS
通孔尺寸:Ø25/Ø35mm
闭/开环分辨率:7/4nm
闭环线性度:0.1%F.S.
闭环重复定位精度:0.05%F.S.
推/拉力:25/8N
刚度:0.2N/μm
空载谐振频率:X180/Y230Hz
闭/开环空载阶跃时间:15/0.8ms
承载:0.7kg
静电容量:1.8μF/轴
材质:钢、铝
重量:200g