纳米光刻是一种全新的纳米图形复制方法，实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。首先计算机将BMP图转化成灰度图，然后再通过二维扫描台，带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，完成图像的纳米定位加工。纳米光刻技术是制作纳米结构的关键，具有广阔的应用前景。

利用芯明天P12系列XY二维扫描台，可带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化，同时控制激光器及扫描台，二者配合完成图像的纳米精度加工。

P12.XY100二维压电扫描台

P12.XY100为二维直线扫描台，内置高可靠性压电陶瓷，运动直线性好，台体中心圆形通孔孔径可选25mm 或35mm，满足精密加工、扫描显微等应用。

开/闭环曲线

注：施加至压电陶瓷的电压约为输入控制电压的12倍。

闭环线性度

技术参数

型号：P12.XY100

运动自由度：X、Y

行程范围@120V：80μm/轴

行程范围@150V：100μm/轴

闭环传感器：SGS

通孔尺寸：Ø25/Ø35mm

闭/开环分辨率：7/4nm

闭环线性度：0.1%F.S.

闭环重复定位精度：0.05%F.S.

推/拉力：25/8N

刚度：0.2N/μm

空载谐振频率：X180/Y230Hz

闭/开环空载阶跃时间：15/0.8ms

承载：0.7kg

静电容量：1.8μF/轴

材质：钢、铝

重量：200g