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纳米光刻中的压电扫描台

纳米光刻是一种全新的纳米图形复制方法,实质是将传统的模具复型原理应用到微观制造领域。首先计算机将BMP图转化成灰度图,然后再通过二维扫描台,带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化,同时控制激光器及扫描台,完成图像的纳米定位加工。纳米光刻技术是制作纳米结构的关键,具有广阔的应用前景。

利用芯明天P12系列XY二维扫描台,可带动镀膜镜片对读取的图像信息进行优化,同时控制激光器及扫描台,二者配合完成图像的纳米精度加工。

P12.XY100二维压电扫描台

P12.XY100为二维直线扫描台,内置高可靠性压电陶瓷,运动直线性好,台体中心圆形通孔孔径可选25mm 或35mm,满足精密加工、扫描显微等应用。

开/闭环曲线

注:施加至压电陶瓷的电压约为输入控制电压的12倍。

闭环线性度

技术参数

型号:P12.XY100

运动自由度:X、Y

行程范围@120V:80μm/轴

行程范围@150V:100μm/轴

闭环传感器:SGS

通孔尺寸:Ø25/Ø35mm

闭/开环分辨率:7/4nm

闭环线性度:0.1%F.S.

闭环重复定位精度:0.05%F.S.

推/拉力:25/8N

刚度:0.2N/μm

空载谐振频率:X180/Y230Hz

闭/开环空载阶跃时间:15/0.8ms

承载:0.7kg

静电容量:1.8μF/轴

材质:钢、铝

重量:200g

 

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