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压电平移台在纳米压印技术中的应用
  压电平移台采用机构放大设计原理,中间具有通孔,非常适用于近场扫描、共焦显微等应用。该系列扫描台XY轴程可达500μm,Z轴直线运动行程可达800μm。中间通孔适配器为标准螺纹牙W0.8×1/36",便于与显微镜集成安装。可匹配蔡司、尼康、奥林巴斯、徕卡等多种标准镜头。
 
  压电平移台内部采用有限元分析(FEA)优化的线切割挠曲铰链结构。FEA使其设计具有尽可能高的刚度,并使线性和角度跳动小化。开环、闭环可选,真空版本可选。
 
  纳米压印过程中压电纳米平台及促动器可以提供稳定的位移输出与控制操作,精度可以达到纳米级别,同时可以提供较大的出力和快速的响应,压电纳米平台是纳米压印技术的重要执行元件。
 
  纳米压印技术基本思想是通过转移介质将掩模板上的图形转移到基板上,转移介质多使用聚合物薄膜(如PMMA、PDMS等)。纳米压印工艺包括图形复制和图形转移两大步骤,掩模板在压力的作用下压进转移介质,经一段时间后转移介质将纳米腔穴充分填充,随之释放压力进行固化脱模,即可在基板上形成辅助转移图形。
 
  在图形复制过程结束之后,首先需要采用各向异性刻蚀或者反应离子刻蚀(RIE)等方法去除掉基板上的抗蚀剂残余层,然后开始图形转移过程。转移图形可以通过刻蚀或者剥离(淀积、溶脱)方法获得。
 
  在刻蚀过程中,基板上抗蚀剂材料的图形结构被当作掩蔽层,然后采用各向异性刻蚀等方法对基板进行刻蚀,这样就将图形转移到基板上。剥离由淀积和溶脱两个步骤组成,先在抗蚀剂的表面镀上一层金属薄膜,然后用有机溶剂将抗蚀剂和其表面的金属薄膜溶解掉,基板剩余的金属薄膜形成了与掩模板上图形一样的微结构,即获得转移图形。
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